这个年代的光刻机，其门槛还是很低的，其本质就是一台投影仪，通过光将设计好的电路图投射到硅片上，以光为刀，在硅片上刻出电路图。

        三大光刻机巨头能做，还有其他小型的的光刻机厂商也能做,就连几大芯片设计公司也可以尝试做几台。

        根据摩尔定律，同样大小的集成电路，上面排列的晶体管数量每18个月就翻一番，性能会提升一倍。

        但是，到20世纪0年代后，摩尔定律却不能延续下去，为什么呢？就是因为光刻机的光源波长在13纳米上再也降不下来,光源技术遇到了瓶颈。

        雕刻的东西越精密，刀尖就必须越细越锋利，怎样才能将13纳米的光波磨细呢？

        正当业界一筹莫展时，一位叫林本坚的华人工程师却另辟蹊径，提出了一个脑洞大开的方案。

        他想到的办法，就是在镜头和硅片之间加一层水。让光经过水的折射，降为132n，这样投射到硅片的图案分辨率更清晰，晶片密度可以更高。

        这就是后世被人赞誉的沉浸式技术。

        此时，林本坚正拿着拿着这种全新的方案、怀揣着梦想，到日、美、德等国各大光刻机公司上门推销。

        内容未完，下一页继续阅读